1. Reação eletroquímica
A figura abaixo é um diagrama esquemático do dispositivo de galvanização. A peça a ser chapeada é o cátodo, que é conectado ao polo negativo da fonte de alimentação de DC. O ânodo do metal é conectado ao polo positivo da fonte de alimentação de DC. O ânodo e o cátodo são imergidos na solução de chapeamento. Quando algum potencial é aplicado entre o cátodo e o ânodo, a seguinte reação ocorre no cátodo: o íon Mn+ do metal difundiu do interior da solução de chapeamento à relação entre o elétrodo e a solução de chapeamento obtém elétrons de n do cátodo e é reduzido ao metal M por outro lado, no ânodo então a reação completamente oposta ao cátodo ocorre, isto é, a dissolução do metal M ocorre na relação do ânodo, e os elétrons de n são liberados para gerar os íons Mn+ do metal.

2. A lei de Faraday
Quando as passagens atuais através da solução de chapeamento, reação eletrolítica ocorrem na solução do eletrólito, o metal no cátodo está precipitado continuamente, e o metal do ânodo é dissolvido continuamente. Consequentemente, a quantidade de precipitação (ou de dissolução) do metal deve ser relacionada à carga que passa completamente. Baseado em um grande número resultados experimentais, Faraday estabeleceu a lei do relacionamento entre (ou se dissolveu) a substância precipitada e a carga elétrica.

A primeira lei de Farah: O peso (ou se dissolveu) da substância precipitada no elétrodo é proporcional à carga passada completamente durante a reação eletrolítica, de que é: m=kQ=kIt (m é a massa da substância precipitada ou dissolvida no elétrodo; Q for a carga passada quando; K é a constante proporcional; Eu sou o atual; t é o tempo da eletrificação.

A lei de Faraday segundo: Em eletrólitos diferentes, quando a mesma quantidade de carga é passada, a quantidade de substância que precipita (ou se dissolve) no elétrodo é igual, e a quantidade de carga exigida precipitar (ou para se dissolver) 1mol de toda a substância é igual a ela é 9.65X104C. Esta constante é chamada Faraday constante, representado por F, K=M/F.

3. Eficiência atual
Durante a galvanização, a massa da substância precipitou realmente no cátodo não é igual ao resultado do cálculo obtido de acordo com a lei de Farah, e o valor real é sempre menor do que o valor calculado. Isto é porque há mais de uma reação no elétrodo. Além do que a reação principal, as reações laterais igualmente ocorrem.

4. Capacidade da dispersão de chapear a solução
A capacidade da dispersão da solução de chapeamento refere a capacidade da solução de galvanização para distribuir uniformemente a espessura da camada do metal, igualmente conhecida como a capacidade de jogo. Melhor a capacidade da dispersão da solução de galvanização, mais uniforme a espessura da camada do metal depositada nas peças diferentes do cátodo.

5. Cobertura de chapear a solução
Na produção de galvanização, um outro conceito de uso geral é capacidade da cobertura, igualmente conhecida como a capacidade de chapeamento profunda, que refere a capacidade da solução de galvanização para depositar o revestimento de metal em rebaixos profundos das peças chapeadas. A capacidade da dispersão e a capacidade da coberta são diferentes. O anterior é uma pergunta de como uniforme o metal é distribuído na superfície do cátodo. Seus locais são que há um revestimento na superfície do cátodo; quando o último referir o problema de se o metal está depositado nos rebaixos profundos da superfície do cátodo.